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                                                        電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)設計及實用設備

⑴電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)設計

   電鍍工業(yè)廢水處理閉路循環(huán)技術的理論基礎是實現溶質、溶劑、雜質三個平衡，基本手段是逆流清洗。

   一個電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)應滿足以下三個平衡條件。

   水量的平衡  要保持進入系統(tǒng)的清洗水與系統(tǒng)自身消耗水量的平衡。設系統(tǒng)的清洗水量為Q,系統(tǒng)自身消耗水量為W（包括蒸發(fā)、鍍件帶出等水量損失）。理想情況是QW,則應*大限度地減少清洗用水。通過強制手段把水量壓下來，形成強制閉路循環(huán)。保持水量平衡的方法與逆流清洗、噴淋清洗等技術緊密相關。

   ‚溶質平衡   鍍液中能形成優(yōu)良鍍膜或鈍化膜所必須的溶質，其帶出量部分隨清洗水而流失。只有當溶質的回收率達99%以上，才能把溶質封閉在工藝過程中。所以，嚴禁工藝過程中的跑冒漏滴，是實現閉路循環(huán)的先決條件。進入清洗液中的溶質均以稀水溶液狀態(tài)與其他離子混雜在一起，欲保持溶質和量上的平衡，溶質回收方法與分離、濃縮技術緊密相關。

ƒ雜質的平衡  在電鍍工藝過程中產生的反過來又影響電鍍質量的各種離子稱為雜質，如各種重金屬離子以及超標的各種有害離子等。由于閉路循環(huán)操作，鍍槽內雜質含量累積增長到一定程度會影響電鍍質量，因因此必須通過一定手段將部分雜質排出系統(tǒng)之外，使槽內雜質含量在穩(wěn)定在不影響電鍍質量的范圍內。雜質去除方法與物理、化學分離技術緊密相關。

 電鍍清洗閉路循環(huán)系統(tǒng)的設計原理就是通過各種單項治理技術的組合，保持系統(tǒng)內上述三個平衡。

 設計時，首先要對系統(tǒng)的水量平衡問題進行分析，確定是否要在逆流清洗基礎上附加其他技術手段。

滿足水量自然循環(huán)閉路循環(huán)的條件是：Q≤W=GS+q

實施水量強制閉路循環(huán)的條件是：    Q>W=GS+q

式中 Q--清洗水量，L/h    W--鍍液消耗量，L/h     S--鍍槽表面積，M2

         G--鍍液蒸發(fā)量，L/(M2.h),G值見表13-7

     q--鍍液帶出量，L/h，計算方法式見（2-17）

                  表13-7 鍍液蒸發(fā)量參考值

閉路循環(huán)分為強制循環(huán)與自然循環(huán)兩種形式。強制閉路循環(huán)就是在逆流漂洗基礎上配合其他設備與技術手段，實現系統(tǒng)內水量、溶質及雜質的平衡。后者不用設備便可實現閉路循環(huán)。無論是強制循環(huán)還是自然循環(huán)，均做不到雜質平衡。因為在電鍍液中的有效成分是溶質，也包括雜質，二者融合為一體不易分離，它們的帶出和回收也融合在一起。逆流清洗只能做到試劑排出量與回收量平衡，清洗水量與回收水量的平衡，做不到鍍槽與雜質在允許范圍內平衡。所以逆流漂洗的自來閉路循環(huán)要給雜質以出路，形成鍍槽雜質在允許范圍內的平衡，這便產生了不同的新工藝。

⑵電鍍鎳漂洗水閉路循環(huán)系統(tǒng)實用設備

逆流清洗---陽離子交換系統(tǒng)

如圖13-2所示，這是一個以逆流清洗為主的系統(tǒng)。系統(tǒng)水量的平衡通過逆流清洗實現，應滿足上述水量自然閉路循環(huán)條件；溶質的平衡通過逆流清洗實現，系統(tǒng)應防止鍍液的跑冒漏滴；雜質的平衡是通過陽離子交換柱將封閉在系統(tǒng)內累積的陽離子去除，保持鍍液的穩(wěn)定。